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第一六六七章 浸没式光刻机面世（第1页）

第一六六七章浸没式光刻机面世

“恭喜邓院长、钱所长，我代表京城半导体集团奖励浸没式光刻机研发团队1000万元，所有人晋升1级工资，推荐钱所长申请工程院院士。”

啪啪……

6月17日，孙健在朱俊松、喻学强、魏建国、钱国培、欧阳明、陈伟长、夏季常等人的陪同下，来到京城半导体集团（BSEC）光刻机研究院会议室，笑容满面的会见院长邓国辉和所长钱富强领导的浸没式光刻机研发团队的147名人员。

众人喜笑颜开，等待这一天已经4年了。

原常务副总经理李昌杰担任PGCA半导体公司中方总经理后，副总经理钱国培担任常务副总经理。

BSEC是淘宝控股公司控股的高科技上市公司，淘宝控股（京城）公司总经理朱俊松和副总经理喻学强担任BSEC的董事。

193nm波长的世界性光学难题困扰了光刻机行业近10年，为了攻克这道难题，GCA选择了技术最复杂的EUV（13.5nm）技术路线，同时也没有放弃157nm激光器路线；Nikon、、SVG和ASML选择157nm激光器路线。

1999年7月，BSEC研究院院长邓国辉院士和光刻机光学研究所所长钱富强研究员率领光源研究所的147名研发人员，在孙健的“点拨”下，经过近3年的潜心研究，终于研制成功浸没式光刻系统技术，ArF激光器发射的193nm光源通过纯净水的折射，得到了波长134nm的光源，解决了业界遇到的193nm波长的世界级难题，并生产了一台65nm制程工艺的浸没式试验机，避免刺激美国，秘而不宣！

孙健当时告诉大家，因试验机所用的光学系统是委托CarlZeissAG生产的，没有自主知识产权，因瓦森纳协定的限制，极有可能被封锁，等自己研制的光学系统符合要求后，再申请公司发明专利。

当时只能委屈钱富强和147名研发人员。

“多谢董事长！”

一晃10年过去，钱富强已经55岁，两鬓斑白，由衷的表示感谢，当年为了赚钱，停薪留职下海，被孙董事长派人请回，担任光源研究所副所长，晋升研究员，担任光源研究所所长，一路走来，事业顺利，但没有想过晋升院士，他和邓院长都明白孙董事长雪藏浸没式光刻机的苦衷，美西方国家一直利用瓦森纳协定对国内高科技企业进行技术封锁和打压。

BSEC的光刻机技术低GCA一代，要面子的美国人不会打压，但一旦超过GCA，极有可能面临制裁。

全球光刻机行业被193nm波长的世界性难题挡住近十年，但对BSEC来说就是一个千载难遇的发展机遇，不然很难赶上Gikon、ASML和。

如今全球5家光刻机公司Gikon、ASML、和BSEC虽然都只能生产90nm制程工艺的光刻机，但技术实力还是有很大的差距。

2001年12月，EUVLLC项目结束，成功解决了EUV光刻机的光学系统（多层膜反射镜）和光源（激光等离子体技术）等核心难题，为GCA后续商业化奠定了技术基础。

2002年1月，GCAEUC光刻机股份公司成立，注册资本金50亿美元，13.5nm波长的EUV激光器一旦成功，研发成功EUV光刻机只是时间问题，光刻机光源就没有了技术瓶颈，光刻机的发展一马平川，GCA被业界公认一枝独秀。

Nikon和投入巨资研发157nm激光器，到如今还没有消息。

2001年6月，ASML投资10亿美元并购SVG后，SVG拥有157nm激光的反折射镜头技术，ASML的技术实力大增，研发157nm激光器的同时，2002年8月，采纳林本坚博士提出的“浸润原理”，投入巨资，同台积电合作，联合开发浸没式光刻机。

ASML采用两条腿走路。

ASML拥有全球第二款双工作台系统，技术实力仅次于Gikon，一旦研发成功134nm波长的浸没式光刻机，技术实力就会超过Nikon。

虽然浸入式光刻机的构思非常巧妙，但同EUC光刻机相比，从工程角度看，并不难完成，

邓国辉和钱富强都担心ASML赶在BSEC的前面发布研发成功浸没式光刻机，但一想到孙董事长旗下公司是ASML的第二大股东，就放下心来。

5月28日，GCAEUV光刻机公司对外公开宣布，经过二年多的潜心研发，EUV光刻机的核心部件EUV激光器研制成功，并通过专家组的鉴定，并申请了国际发明专利，并向媒体展示了一台EUV激光器和一台EUV光刻机原型机。

EUV激光器获取EUV光源的办法是将二氧化碳激光照射在锡等靶材上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源。

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EUV激光器和EUV光刻机原型机在全球引起极大的轰动，阻碍全球半导体产业发展的技术瓶颈被美国科学家攻克。

GCA同时宣布，GCAEUV光刻机的量产还需要很长的时间。

得到消息的魏建国、邓国辉和钱富强都知道BSEC公开推出浸没式光刻机不远了。

工程院院士候选人不受理个人申请，需要通过院士或有关学术团体提名，也可以同时通过以上两种渠道提名。

钱富强研究员在全球顶尖光刻机期刊上发表了30多篇专业论文，在全球光刻机光源行业具有极高的威望，主持研发成功的浸没式光刻机是全球首创，国际领先技术，具有百亿美元的市场价值。

京城半导体集团拥有4名光刻机专业顶尖的院士。

邓国辉院士担任光刻机协会会长，还担任国家光刻机专家组主任委员，欧阳明院士、陈伟长院士和夏季常院士担任国家光刻机专家组副主任委员，钱富强研究员担任光刻机协会秘书长。

浸没式光刻机经过专家组鉴定只是走程序。

“邓总，马上组织光刻机专家组成员鉴定，鉴定通过后，申请公司发明专利。”

“好的，董事长！”

魏建国知道浸没式光刻机的来龙去脉，一直保守秘密。

BSEC从1999年8月开始立项，投资1亿元，邓国辉和钱富强带领光刻机光源研究所，静下心来开始研发EUV，虽然快4年过去，前后花费3.6亿元，还没有研发成功EUV，但光源研究所的科研成果丰硕，申请了165项公司发明专利（其中4项核心发明专利），研发成功具有自主知识产权的浸没式光刻机所需的光学系统，并生产了3台浸没式光刻机试验机，只等孙董事长一声令下，BSEC随时可以量产。

（本章完）

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